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PVD鍍膜技術的新進展


發布時間:2019-02-20 15:40:52
     随着PVD技術應用的迅速推廣,吸引了國内外專家們和相關企業積極研發,至今無論是PVD沉積技術、PVD的制備工藝,還是PVD設備配套裝備與部件,都有了長足的進步。
1. 冷陰極電弧
    陰極電弧技術是在真空條件下,通過低電壓和高電流的弧光放電将靶材氣化、離化成等離子體狀态,從而實現薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發源有新的發展,主要是通過有效強制冷卻和電磁場獨特的設計,在兩者共同作用下,使靶材的離化率更高,薄膜性能更加優異。
2. 磁過濾陰極弧
    配以高效的電磁過濾系統,将電弧産生的等離子體中的中性宏觀粒子、分子團等大顆粒過濾幹淨,經磁過濾後沉積粒子的離化率達100%, 因此制備的薄膜非常緻密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與基體的結合力更強。
3. 柱狀或平面狀大面積電弧源
保證高離化率的同時,減少大顆粒沉積的比例,達到既有好的附着力,又有較好的表面光潔度效果。
4. 中頻磁控濺射
    增加離化率,減少電荷積累引起的異常放電,預防靶表面中毒現象,沉積工藝更穩定。
5. 全封閉非平衡磁控濺射
    通過全封閉非平衡電磁場的作用,極大地提高真空室内的離化率以及沉積速率,增強膜基結合力和薄膜沉積的均勻性。
6. 脈沖高能窄峰直流濺射
    提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%),接近電弧的離化率。通過電磁場的作用可以大大增加沉積離子的能量,從而改善膜層的結合力和緻密性。
7. 陽極層離子源輔助沉積
    提高轟擊清洗的質量,特别是可以實現對非導體的鍍前清洗,鍍膜時輔助沉積,提高沉積粒子的能量,改善膜層的結合力。
8. 納米複合多層膜
     納米沉積技術,是塗層結構未來的發展方向,通過納米級厚度的不同成份沉積層複合結構膜,實現塗層性能的極大增強。
9. 裝飾性雙色間鍍
    單一的顔色PVD塗層已滿足不了市場的需求,進而提出雙色間鍍的要求,這是裝飾塗層的發展方向,雙色間鍍的質量成為代表PVD加工企業的生産技術水平标志。
10. 高能脈沖疊加直流偏壓
       減少工件的打火,增加沉積離子能量,增強膜基結合力,提高沉積速率。
11. 超低溫捕集泵
通過低溫冷凝效應,迅速捕集真空系統内的殘餘氣體,特别是水蒸汽,大大縮短抽真空的時間,獲得潔淨的真空環境。
12. 分子泵及深冷泵
     綠色環保,大大降低能耗,真空系統抽速穩定,鍍膜工藝穩定可靠,重現性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體,保證真空系統的潔淨度。
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